M.Ishikawa: "Initial Growth of Chemical Vapor Deposited SiO_2" J.Appl.Phys.82(5). 2655-2661 (1997)
M.Ishikawa: "Initial Growth of Chemical Vapor Deposited SiO_2" J.Appl.Phys.82(5). 2655-2661 (1997)
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M.Ishikawa：“化学气相沉积 SiO_2 的初始生长”J.Appl.Phys.82(5)。
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