Ni/Si系におけるモノシリサイドとジシリサイドのマルチフェーズ形成

Ni/Si系におけるモノシリサイドとジシリサイドのマルチフェーズ形成
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Ni/Si体系中单硅化物和二硅化物的多相形成

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
電子情報通信学会技術研究報告
影响因子:
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通讯作者:
徳田奨
徳田奨
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
野矢厚;武山真弓;佐藤勝;徳田奨

文献摘要

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