Ar+H2+C7H8プラズマCVD法におけるアモルファス水素化炭素膜に対する水素流量比の影響
Ar+H2+C7H8プラズマCVD法におけるアモルファス水素化炭素膜に対する水素流量比の影響
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Ar+H2+C7H8等离子体CVD法中氢气流量比对非晶氢化碳薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
白谷正治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
方韜鈞;山木健司;山下大輔;徐鉉雄;板垣奈穂;古閑一憲;白谷正治
