Nanoscale artifact metrics based on application of interferometric measurement
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复制标题
基于干涉测量应用的纳米级伪影度量
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Naoya Tate
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiraku Matsukuma;Yoshiaki Kakimoto;Shigeki Tokita;Yuki Shimizu;Wei Gao;Naoya Tate
