Effects of annealing temperature, atomic composition, film thickness on structure and magnetic properties of CoPt composite films
Effects of annealing temperature, atomic composition, film thickness on structure and magnetic properties of CoPt composite films
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退火温度、原子组成、膜厚对CoPt复合薄膜结构和磁性能的影响
DOI：
10.1016/j.jallcom.2010.09.020
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发表时间：
2011-01
影响因子：
6.2
通讯作者：
张永军
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
张永军
通过在磁控溅射系统中共溅射Co和Pt靶之后在600°C下退火CoPt膜来获得L10-CoPt。X射线衍射（XRD）和高分辨透射电子显微镜（HRTEM）结果表明，在沉积后的退火过程中，薄膜由面心立方（FCC）结构转变为L10有序结构。随着退火温度的升高，薄膜中的热应力（ST）、本征应力（Si）和总应力（Stotal）均减小。当Co原子组成为50%时，CoPt薄膜的矫顽力达到一个巨大的值，约为6300 Oe。随着膜厚的增加，应力得到释放。弛豫的残余应力占在结晶度的增强。Co_（50）Pt_（50）薄膜的磁化反转机制既不符合S-W模型，也不符合DWM模型。
L10–CoPt was obtained by annealing the CoPt film at 600°C after co-sputtering Co and Pt targets in a magnetron sputtering system. X-ray diffraction (XRD) and high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) results showed a transformation from the face-centered-cubic (FCC) structure to the L10ordered structure during the post-deposition annealing. Thermal stress (ST), intrinsic stress (Si) and total stress (Stotal) in the films decreased with the increase of the annealing temperature. When the Co atomic composition was 50%, the coercivity of the CoPt film reached to a giant value, around 6300Oe. The stress was released when the film thickness increased. The relaxed residual stress accounted for the enhancement in the coercivity. Magnetization reversal mechanism of the Co50Pt50film followed neither the S–W model nor the DWM model.
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S. Jen
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Arnaud Demortière;Christophe Petit