Sputter deposition of ZnAlO films with tunable bandgaps from 3.4 to 6.1 eV Structural and Optical Properties of ZnMgO Films on Sapphire Substrates Fabricated by Sputter Epitaxy １．発表者名 D. Takahashi, Y. Nakamura, S. Urakawa, D. Yamashita, T. Okumura, K. Kam
Sputter deposition of ZnAlO films with tunable bandgaps from 3.4 to 6.1 eV Structural and Optical Properties of ZnMgO Films on Sapphire Substrates Fabricated by Sputter Epitaxy １．発表者名 D. Takahashi, Y. Nakamura, S. Urakawa, D. Yamashita, T. Okumura, K. Kam
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溅射沉积 ZnAlO 薄膜，带隙可调，范围为 3.4 至 6.1 eV 溅射外延法在蓝宝石衬底上溅射沉积 ZnMgO 薄膜的结构和光学特性 1。
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N. Itagaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Narishige;K. Kaneshima;S. Urakawa;D. Yamashita;K. Kamataki;T. Okumura;K. Koga;M. Shiratani;N. Itagaki
