Etching morphology of HOPG and Molybdenum Disulfide (MoS2) treated with inward-plasma
Etching morphology of HOPG and Molybdenum Disulfide (MoS2) treated with inward-plasma
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内向等离子体处理的 HOPG 和二硫化钼 (MoS2) 的蚀刻形貌
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安藤淳
中科院分区：
文献类型：
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作者：
久保利隆;宮脇淳;清水哲夫;新堀俊一郎;高橋賢;安藤淳
