K.Nakamura et al.: "Direct measurements of sheath-accelerated secondary electrons for monitoring the incident ion flux in plasma immersion ion implantation"Plasma Sources Science and Technology. 11. 161-164 (2002)
K.Nakamura et al.: "Direct measurements of sheath-accelerated secondary electrons for monitoring the incident ion flux in plasma immersion ion implantation"Plasma Sources Science and Technology. 11. 161-164 (2002)
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K.Nakamura 等人：“用于监测等离子体浸没离子注入中入射离子通量的鞘加速二次电子的直接测量”等离子源科学与技术。
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