Molecular Beam Deposition of High-Density InAs Quantum Dots on SiOx Films

Molecular Beam Deposition of High-Density InAs Quantum Dots on SiOx Films
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SiOx 薄膜上高密度 InAs 量子点的分子束沉积

DOI:
10.7567/1347-4065/ab0def
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发表时间:
2019
影响因子:
1.5
通讯作者:
Y. Tanaka and K. Yamaguchi
Y. Tanaka and K. Yamaguchi
中科院分区:
物理与天体物理4区
文献类型:
--
作者:
A. Makaino;Y. Tanaka and K. Yamaguchi

文献摘要

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