Ultralow-k dielectrics made by supercritical foaming of thin polymer films
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DOI：
10.1002/1521-4095(20020805)14:15
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发表时间：
2002-08
影响因子：
29.4
通讯作者：
B. Krause;G. Koops;van der N.F.A. Vegt;Matthias Wessling;M. Wubbenhorst;van Jan Turnhout
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B. Krause;G. Koops;van der N.F.A. Vegt;Matthias Wessling;M. Wubbenhorst;van Jan Turnhout
