Holographic grating formation in SiO2 nanoparticle-dispersed PQ-PMMA photopolymer
Holographic grating formation in SiO2 nanoparticle-dispersed PQ-PMMA photopolymer
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SiO2 纳米粒子分散的 PQ-PMMA 光聚合物中全息光栅的形成
DOI：
10.1016/j.optlastec.2011.11.015
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发表时间：
2012-06
影响因子：
5
通讯作者：
Xiudong Sun
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Dan Yu;Jian Wang;Yongyuan Jiang;Xiudong Sun
从理论和实验上研究了SiO2纳米粒子分散的PQ-PMMA光致聚合物的全息记录和光栅形成动力学。已经证明了通过将无机纳米颗粒掺杂到聚合物基质中来改善折射率调制的可能性。在曝光过程中，聚合速率与入射光强的非线性关系γ增大，从而使SiO2纳米粒子分散光致聚合物的光栅形成速率加快。利用互扩散模型对曝光后的暗扩散增强机制--互扩散动力学进行了分析和模拟。提取了互扩散系数的最大值，其数量级为10 - 16 m2/s。该研究为无机纳米粒子作为掺杂剂改善聚合物的性能提供了重要的基础。
The holographic recording and grating formation dynamics in SiO2nanoparticle-dispersed PQ-PMMA photopolymer are investigated theoretically and experimentally. It has demonstrated a possibility to improve the refractive index modulation by doping inorganic nanoparticles into the polymer matrix. During exposure the nonlinear dependence γ of polymerization rate on the incident intensity is elevated and therefore faster grating formation rate is obtained in SiO2nanoparticle-dispersed photopolymer. Mutual diffusion dynamics as dark diffusional enhancement mechanism after exposure is analyzed and simulated by mutual diffusion model. The maximum of mutual diffusion coefficient with the order of magnitude 10−16m2/s is extracted. This study can provide a significant foundation for improving the properties of the polymer using inorganic nanoparticles as dopants.
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N. Suzuki;Y. Tomita;K. Ohmori;M. Hidaka;K. Chikama