鉄シリサイド核/Siを用いた鉄酸化物のエピタキシャル成長
鉄シリサイド核/Siを用いた鉄酸化物のエピタキシャル成長
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使用硅化铁核/Si 外延生长氧化铁
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
酒井 朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松井 秀紀;中村 芳明;中本 悠太;竹内 正太郎;酒井 朗
