Precise control of dry etching for nanometer scale air-hole arrays in twe-dimensional GaAs/AlGaAs photonic crystal slab,
Precise control of dry etching for nanometer scale air-hole arrays in twe-dimensional GaAs/AlGaAs photonic crystal slab,
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二维GaAs/AlGaAs光子晶体板中纳米级气孔阵列干法刻蚀的精确控制，
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K.Asakawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Ikeda;Y.Sugimoto,<Y.WatanabeN.Ozake;Y.Takata;Y.Tanaka;K.Inoue;and K.Asakawa
