Direct chemisorption site selectivity for molecular halogens on the Si(111)-(7 x 7) surface.
Direct chemisorption site selectivity for molecular halogens on the Si(111)-(7 x 7) surface.
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Si(111)-(7 x 7) 表面上分子卤素的直接化学吸附位点选择性。
DOI：
10.1103/physrevlett.76.1388
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发表时间：
1996
影响因子：
8.6
通讯作者：
Kummel
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Jensen;Yan;Kummel
研究了Si（111）-（7× 7）晶胞中F2、Cl 2和B r2的直接化学吸附位置偏好.抽象的化学吸附，产生一个单一的化学吸附卤素原子，总是倾向于中心吸附原子吸附，这表明与最低的电子密度的网站是更活泼。解离化学吸附，产生一对化学吸附的卤素原子，显示出一个极端的偏好，最近的相邻对中心吸附原子。这些结果支持了逐步直接化学吸附机制的概念。
Direct chemisorption site preferences within the Si (111)-(7× 7) unit cell are examined for F 2, C l 2, and B r 2. Abstractive chemisorption, which produces a single chemisorbed halide atom, always prefers center adatom adsorption, indicating that the site with the lowest electron density is the more reactive. Dissociative chemisorption, which produces a pair of chemisorbed halide atoms, shows an extreme preference for the closest neighboring pair of center adatoms. The notion of a stepwise direct chemisorption mechanism is upheld by these results.