Fumitaka Honma: "Ultrashallow junction formation using low-temperature selective Si_<1-X>Ge_X CVD" Extended Abstracts of the 1993 International Conference on Solid State Devices and Materials. 380-382 (1993)
Fumitaka Honma: "Ultrashallow junction formation using low-temperature selective Si_<1-X>Ge_X CVD" Extended Abstracts of the 1993 International Conference on Solid State Devices and Materials. 380-382 (1993)
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Fumitaka Honma：“使用低温选择性 Si_<1-X>Ge_X CVD 形成超浅结”1993 年国际固态器件和材料会议的扩展摘要。
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