半導体スピン素子のための高濃度Si層の作製
半導体スピン素子のための高濃度Si層の作製
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用于半导体自旋器件的高浓度硅层的制备
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
石川 瑞恵
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Rikuya Watanabe;Naoki Takeda;Keitaro Kasuya;Kosuke Takahashi;Kojiro Uetani;Shota Tsuneyasu;Toshifumi Satoh;石川 瑞恵
