Breakdown voltage analysis of Al0.25Ga0.75N/GaN high electron mobility transistors with the partial silicon doping in AlGaN layer

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AlGaN层部分硅掺杂的Al0.25Ga0.75N/GaN高电子迁移率晶体管的击穿电压分析

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
1.7
通讯作者:
段宝兴
段宝兴
中科院分区:
物理与天体物理3区
文献类型:
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作者:
段宝兴

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