H.Funakubo and M.Aratani: "Preparation of Ferroelctric Memory Thin Film by MOCVD"Industrial Mater.. 49(3). 65-70 (2000)
H.Funakubo and M.Aratani: "Preparation of Ferroelctric Memory Thin Film by MOCVD"Industrial Mater.. 49(3). 65-70 (2000)
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H.Funakubo 和 M.Aratani：“通过 MOCVD 制备铁电存储薄膜”工业材料.. 49(3)。
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