Performance of Inductively Coupled Plasma Source with an External Coil for Sputtering of Titanium Oxide

Performance of Inductively Coupled Plasma Source with an External Coil for Sputtering of Titanium Oxide
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带有外部线圈的感应耦合等离子体源用于氧化钛溅射的性能

DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Proceedings of Plasma Science Symposium 2005/The 22^th Symposium on Plasma Processing
影响因子：
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通讯作者：
Ken Okumura
Ken Okumura
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
J.Takayama;K.Okimura;Kunio Okimura;Kunio Okimura;Kunio Okimura;Ken Okumura

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