M-K.Kang,T.Yamamoto H.Kuwano: "Phosphorus and boron doping effect on solid plase recrystallization of poly-Si films amorphized by Ge ion implantation" J.Mat.Sci.Lett.15. 343-345 (1996)
M-K.Kang,T.Yamamoto H.Kuwano: "Phosphorus and boron doping effect on solid plase recrystallization of poly-Si films amorphized by Ge ion implantation" J.Mat.Sci.Lett.15. 343-345 (1996)
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M-K.Kang，T.Yamamoto H.Kuwano：“磷和硼掺杂对 Ge 离子注入非晶化多晶硅薄膜固体激光再结晶的影响”J.Mat.Sci.Lett.15。
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