Hybrid Orientation Selective Orientation Epitaxial Growth of CeO_2(100) and (110) Regions on Si(100) Sub- strates

Hybrid Orientation Selective Orientation Epitaxial Growth of CeO_2(100) and (110) Regions on Si(100) Sub- strates
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Si(100) 衬底上 CeO_2(100) 和 (110) 区域的混合取向选择性取向外延生长

DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
Proc. 12th International Symposi- um on Sputtering & Plasma Processes
影响因子:
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通讯作者:
T. Inoue and S. Shida
T. Inoue and S. Shida
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
T. Inoue and S. Shida

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