定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第18報）－コヒーレント結像逐次再構成型超解像による二次元超解像法のシミュレーションによる検討－
定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査（第18報）－コヒーレント結像逐次再構成型超解像による二次元超解像法のシミュレーションによる検討－
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使用驻波位移的半导体晶片表面的超分辨率光学缺陷检查（第18次报告） - 通过使用相干成像顺序重建型超分辨率的二维超分辨率方法的模拟研究 -
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
工藤良太，高橋哲，高増潔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Yokozeki;Ryota Kudo;Satoru Takahashi;Kiyoshi Takamasu;金成碩，久米大将，横関宏樹，高橋哲，高増潔;横関宏樹，久米大将，高橋哲，高増潔;久米大将，横関宏樹，高橋哲，高増潔;高橋哲;久米大将，横関宏樹，工藤良太，高橋哲，高増潔;横関宏樹，工藤良太，高橋哲，高増潔;工藤良太，高橋哲，高増潔
