Y.Hikosaka,M.Nakamura,H.Sugai: "Free Radicals in an Inductively Coupled Etching Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 2157-2163 (1994)
Y.Hikosaka,M.Nakamura,H.Sugai: "Free Radicals in an Inductively Coupled Etching Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 33. 2157-2163 (1994)
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Y.Hikosaka、M.Nakamura、H.Sugai：“感应耦合蚀刻等离子体中的自由基”日本应用物理学杂志。
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