Y.Gotoh: "Formation and control of stoichiometric hafnium nitride thin films by direct sputtering of hafnium nitride target"Japan. J. of Appl. Phys. Part 2. 42(7A). L778-L780 (2003)
Y.Gotoh: "Formation and control of stoichiometric hafnium nitride thin films by direct sputtering of hafnium nitride target"Japan. J. of Appl. Phys. Part 2. 42(7A). L778-L780 (2003)
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Y.Gotoh：“通过直接溅射氮化铪靶材形成和控制化学计量氮化铪薄膜”，日本。
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