A. M. Ali: "Effects of Addition of SiF_4 During Growth of Nano-Si Films at 100℃ by PECVD"Jpn. J. Appl. Phys.. 38,10. 6047-6053 (1999)
A. M. Ali: "Effects of Addition of SiF_4 During Growth of Nano-Si Films at 100℃ by PECVD"Jpn. J. Appl. Phys.. 38,10. 6047-6053 (1999)
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A. M. Ali：“在 100℃ 下通过 PECVD 生长纳米硅薄膜时添加 SiF_4 的效果”J. Appl. 38,10 (1999)。
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