N. Ueno; Y. Doi; K. Sugita; S. Sasaki; S. Nagata.: "Improvement of plasma etching durability of positive working resists by copolymerization, Blending and crosslinking." J. Appl. Polym. Sci.34. 1677-1691 (1987)
N. Ueno; Y. Doi; K. Sugita; S. Sasaki; S. Nagata.: "Improvement of plasma etching durability of positive working resists by copolymerization, Blending and crosslinking." J. Appl. Polym. Sci.34. 1677-1691 (1987)
复制标题
N.上野；
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
