Tatsuo Okada 他: "Characteristics of PlasmaーEnhanced Photoemission from Thin Films during PlasmaーAssisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 30. L1591-L1593 (1991)
Tatsuo Okada 他: "Characteristics of PlasmaーEnhanced Photoemission from Thin Films during PlasmaーAssisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 30. L1591-L1593 (1991)
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Tatsuo Okada 等人：“等离子体辅助化学气相沉积过程中薄膜的等离子体增强光电子发射特性”，日本应用物理学杂志 30。L1591-L1593 (1991)。
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