A DC Plasma Chemical Vapor Deposition Chamber Utilizing a Striaming Neutral Gas Injection Cathode
A DC Plasma Chemical Vapor Deposition Chamber Utilizing a Striaming Neutral Gas Injection Cathode
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采用流动中性气体注入阴极的直流等离子体化学气相沉积室
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Wada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. G. Mendenilla;G. Malapit;M. Wada
