Thermal Stability of HfOx-Based Resistive Memory Array: A Temperature Coefficient Study
Thermal Stability of HfOx-Based Resistive Memory Array: A Temperature Coefficient Study
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基于 HfOx 的电阻式存储阵列的热稳定性：温度系数研究
DOI：
10.1109/led.2017.2787124
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发表时间：
2017
影响因子：
4.9
通讯作者：
He Qian
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Xiaohu Wang;Huaqiang Wu;Bin Gao;Xinyi Li;Ning Deng;He Qian
