Thickness monitoring of nm period EUV multilayer fabrication by ellipsometry
Thickness monitoring of nm period EUV multilayer fabrication by ellipsometry
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通过椭圆光度法监测纳米周期 EUV 多层制造的厚度
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Toshihide Tsuru
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazuhiro Endo;Peter Badica;Tamio Endo;Toshihide Tsuru
