Surface reconstruction during halogen-etching of Si(111) surface at high-temperature ------ Stress to align the nano-cluster

Surface reconstruction during halogen-etching of Si(111) surface at high-temperature ------ Stress to align the nano-cluster
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Si(111)表面高温卤蚀过程中的表面重构------应力排列纳米团簇

DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Activity Report of 141st Committee on Microbeam Analysis Japan Society for the Promotion of Science (JSPS). (in press)(8月予定)
影响因子：
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通讯作者：
M.Tanaka
M.Tanaka
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K.Shudo;Y.Koike;Y.Owa;M.Koma;S.Ohno;M.Tanaka

文献摘要

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