直流および高周波マグネトロンスパッタ法により成膜した窒化ハフニウム薄膜の仕事関数の測定
直流および高周波マグネトロンスパッタ法により成膜した窒化ハフニウム薄膜の仕事関数の測定
复制标题
直流和高频磁控溅射法沉积的氮化铪薄膜功函数的测量
DOI：
--
复制
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
後藤康仁
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
大住知暉;長尾昌善;後藤康仁
