A study for reducing pattern position alignment error of a simplified photo lithography method for the nanotech platform established at the average science laboratory
A study for reducing pattern position alignment error of a simplified photo lithography method for the nanotech platform established at the average science laboratory
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普通科学实验室建立的纳米技术平台的简化光刻方法减少图案位置对准误差的研究
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Nagaoka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Kunisawa;M. Yamamoto;T. Shimizu;R. W. Johnston;F. Shimokawa;H. Horibe;M. Rusop;and S. Nagaoka
