ターフェニル基を含むシス-シソイダル型ポリ[3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン]の合成とそれらの光学的特性

ターフェニル基を含むシス-シソイダル型ポリ[3,5-ビス(ヒドロキシメチル)フェニルアセチレン]の合成とそれらの光学的特性
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含三联苯基顺式聚[3,5-双(羟甲基)苯乙炔]的合成及其光学性能

DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
寺口 昌宏
寺口 昌宏
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
澤 真弘;金子 隆司;青木 俊樹;寺口 昌宏

文献摘要

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