抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响
抛光工艺参数对熔石英元件低频面形精度的影响
复制标题
DOI:
--
复制
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
王景贺
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
朱本温;陈贤华;侯晶;王景贺