再成長ソース・ドレインを有するマルチゲートＭＯＳＦＥＴの作製プロセス
再成長ソース・ドレインを有するマルチゲートＭＯＳＦＥＴの作製プロセス
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源极和漏极再生的多栅极MOSFET的制造工艺
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
木下治紀
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masahiko Nishimoto;Daisuke Yoshida;木下治紀
