Atmospheric-Pressure Plasma Oxidation Process for Passivation of Si Surface
Atmospheric-Pressure Plasma Oxidation Process for Passivation of Si Surface
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硅表面钝化的大气压等离子体氧化工艺
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他3名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Z.T.Zhuo;H.Ohmi;H.Kakiuchi;K.Yasutake;他3名
