Nanofabrication of magnetic tunnel junctions using electron beam lithography
Nanofabrication of magnetic tunnel junctions using electron beam lithography
复制标题
使用电子束光刻技术纳米制造磁隧道结
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomohiko Niizeki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Taguchi;A.Chainani;K.Horiba;Y.Takata;M.Yabashi;K.Tamasaku;Y.Nishino;D.Miwa;T.Ishikawa;T.Ishikawa;T.Takeuchi;K.Yamamoto;M.Matsunami;S.Shin et al.;Tomohiko Niizeki
库仑封锁状态下 Ni/NiO/Co 小隧道结的磁阻
影响因子：
1.7
作者：
K. Ono;H. Shimada;Shun–ichi Kobayashi;Y. Ootuka
通讯作者：
Y. Ootuka