H.Doshita, K.Ohtani, and A.Namiki: ""Dynamical aspect of Cl_2 reaction on Si surfaces"" Journal Vacuum Science and Technology. A16(1). 265-269 (1998)
H.Doshita, K.Ohtani, and A.Namiki: ""Dynamical aspect of Cl_2 reaction on Si surfaces"" Journal Vacuum Science and Technology. A16(1). 265-269 (1998)
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H.Doshita、K.Ohtani 和 A.Namiki：““Si 表面上 Cl_2 反应的动态方面””真空科学与技术杂志。
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