N. Fujimura, T. Matsui, T.Ito and Y.Nakayama: ""Solid State Reactions of TiN/Ti/Si for Diffusion Barrier"" Journal of Materials Research will be submitted.
N. Fujimura, T. Matsui, T.Ito and Y.Nakayama: ""Solid State Reactions of TiN/Ti/Si for Diffusion Barrier"" Journal of Materials Research will be submitted.
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N. Fujimura、T. Matsui、T.Ito 和 Y.Nakayama：““TiN/Ti/Si 用于扩散势垒的固态反应””将提交材料研究杂志。
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