Masahisa Okada et al.: "Epitaxial growth of heavily B-doped SiGe films and interfacial reaction of Ti/B-doped SiGe bilayer structure using rapid thermal processing"Thin Solid Films. 369. 130-133 (2000)
Masahisa Okada et al.: "Epitaxial growth of heavily B-doped SiGe films and interfacial reaction of Ti/B-doped SiGe bilayer structure using rapid thermal processing"Thin Solid Films. 369. 130-133 (2000)
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Masahisa Okada 等人：“使用快速热处理的重硼掺杂 SiGe 薄膜的外延生长和 Ti/B 掺杂 SiGe 双层结构的界面反应”固体薄膜。
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