S.Ando, I.Sakamoto: "Study of HfN films deposited by rf reactive sputtering" Proc. IMMM. 561-466 (1995)
S.Ando, I.Sakamoto: "Study of HfN films deposited by rf reactive sputtering" Proc. IMMM. 561-466 (1995)
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S.Ando、I.Sakamoto：“射频反应溅射沉积的 HfN 薄膜的研究”Proc。
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