Epitaxial growth of highly strained RuO2 thin film by self-buffering method
Epitaxial growth of highly strained RuO2 thin film by self-buffering method
复制标题
自缓冲法外延生长高应变RuO2薄膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tomoteru Fukumura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zainab Fatima;Daichi Oka;Tomoteru Fukumura
