SiNパターン膜により導入されたSOI表面の歪分布評価
SiNパターン膜により導入されたSOI表面の歪分布評価
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SiN图案薄膜引入的SOI表面应变分布评估
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小瀬村 大亮、小椋 厚志;他
