Influence of annealing atmosphere on epitaxial growth process of CeO2 buffer layer for coated conductors
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退火气氛对包覆导体CeO2缓冲层外延生长过程的影响
DOI：
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发表时间：
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影响因子：
1.8
通讯作者：
L.H. Jin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C.S. Li;Z.M. Yu;J.Q. Feng;L.H. Jin
