T.Ifuku, M.Otobe, A.Itoh and S.Oda: "Fabrication of Nanocrystalline Silicon with Small Spread of Particle Size by Pulsed Gas Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 36. 4031-4034 (1997)

T.Ifuku, M.Otobe, A.Itoh and S.Oda: "Fabrication of Nanocrystalline Silicon with Small Spread of Particle Size by Pulsed Gas Plasma" Japanese Journal of Applied Physics. 36. 4031-4034 (1997)
复制标题

T.Ifuku、M.Otobe、A.Itoh 和 S.Oda:“通过脉冲气体等离子体制造具有小粒径分布的纳米晶硅”日本应用物理学杂志。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献