マルチマイクロホローカソード光源を用いた透明導電膜成膜スパッタプロセスにおける金属原子密度のモニタリング
マルチマイクロホローカソード光源を用いた透明導電膜成膜スパッタプロセスにおける金属原子密度のモニタリング
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利用多微空心阴极光源监测透明导电薄膜沉积溅射过程中金属原子密度
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
堀勝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
田子多直樹;家苗毅司;太田貴之;伊藤昌文;東島康裕;加納浩之;田昭治;堀勝
