Zone-melting recrystallization of thick silicon on insulator films
Zone-melting recrystallization of thick silicon on insulator films
复制标题
绝缘体薄膜上厚硅的区域熔化再结晶
DOI：
10.1016/0167-577x(84)90128-9
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发表时间：
1984
影响因子：
3
通讯作者：
M. Geis
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Atwater;Henry I. Smith;C. Thompson;M. Geis
