Photo-stimulated desorption from chlorinated Si(l ll) surface : Etching of SiCl by picosecond pulsed laser irradiation
Photo-stimulated desorption from chlorinated Si(l ll) surface : Etching of SiCl by picosecond pulsed laser irradiation
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氯化 Si(lll) 表面的光刺激解吸：皮秒脉冲激光照射蚀刻 SiCl
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kirimura;et al.
