Beam Study on the Si and SiO_2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions
Beam Study on the Si and SiO_2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions
复制标题
高能氟碳离子刻蚀Si和SiO_2过程的束流研究
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Sugai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Toyoda;H.Morishima;R.Fukute;Y.Hori;I.Murakami;H.Sugai
